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高純水設(shè)備電去離子過(guò)程水解離的基本特征

時(shí)間:2014-09-24 作者:admin 點(diǎn)擊:380次

通過(guò)考察高純水設(shè)備(EDI)膜堆由非穩(wěn)態(tài)到穩(wěn)態(tài)的過(guò)程中濃水電導(dǎo)率的變化規(guī)律以及處于穩(wěn)態(tài)條件下的V-I特性曲線,探討高純水設(shè)備(EDI)處理過(guò)程中水解離的基本特征.研究表明,在膜堆內(nèi)部離子一旦發(fā)生定向遷移,在樹(shù)脂表面水界面層中就會(huì)形成較高的電勢(shì)梯度,引起水的解離,而且在高電流密度下,高純水設(shè)備淡室中離子交換膜表面水界面層也會(huì)發(fā)生水解離.

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