從出水水質(zhì)和運行參數(shù)控制兩方面,對高純水設(shè)備模塊受化學(xué)污染情況進行了試驗研究。結(jié)果表明,根據(jù)產(chǎn)水電導(dǎo)率的變化可判斷出高純水設(shè)備模塊的結(jié)垢初始點,且化學(xué)污染主要發(fā)生在陽離子樹脂上;為有效控制化學(xué)污染,應(yīng)選擇適當(dāng)?shù)倪M水流量和操作電流(以產(chǎn)水電導(dǎo)率0.2μS/cm為控制指標,該試驗裝置的*佳流量和電流分別為162 L/h和2 A)。另外,通過正交試驗確定了高純水設(shè)備模塊的*優(yōu)清洗方案,即用2%的HCl清洗30 min,并浸泡2 h。